開発力・製造力・商社力 三つの力でお客様のご要望にお応えいたします

What_'s new
お知らせ
2026/6/02
川越オフィス臨時クローズのお知らせ(2026年6月3日)
お知らせ
2026/4/15
OPIE’26出展のお知らせ(2026年4月22日~24日)
お知らせ
2026/4/09
Webサイトをリニューアルいたしました
お知らせ
2025/12/18
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2025/7/05
COMNEXTで講演します(2025年7月31日)
お知らせ
2025/6/20
OPK2025出展のお知らせ(2025年7月16日~7月17日)
お知らせ
2025/4/18
OPIE’25出展のお知らせ(2025年4月23日~25日)(更新)
お知らせ
2025/2/19
OFC 出展のお知らせ(2025年4月1日~3日)
お知らせ
2024/12/06
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2024/5/20
OPK’24出展のお知らせ(2024.6.26更新)
お知らせ
2024/3/21
OFC 2024出展のお知らせ(3月26日~28日)
お知らせ
2024/1/29
OPIE’24出展のお知らせ(2024/03/29続報)
お知らせ
2023/11/28
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2023/11/17
[重要] 弊社代表FAXの不具合について(2023.11.17)
お知らせ
2023/4/04
2023年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2023/3/30
[重要] 弊社代表FAXの不具合について
お知らせ
2022/12/06
今年度年末年始の営業予定について
お知らせ
2022/8/09
2022年夏季営業について
お知らせ
2022/4/22
2022年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2022/2/16
SPECK SENSORSYSTEME社のCRD吸収係数測定システムの販売を開始しました。
お知らせ
2022/2/16
NANOLN社のLiNbO3, LiTaO3単結晶薄膜の販売を開始しました。
お知らせ
2020/5/03
Dimension Technology社のコネクタ端面検査装置の販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/31
Stable Laser Systems社のサブHz、Hz線幅レーザとコンポーネントの販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/23
World Star Tech社のパソコン制御LD光源の販売を開始しました
お知らせ
2020/3/05
WL Photonics社の780 -1000 nmチューナブルフィルタの販売を開始しました
お知らせ
2020/3/03
Spectrolight社のイメージング・照明用波長セレクタ(Flexible Wavelength Selector)の販売を開始しました
Search by product category
| Different Articles | Stock | Type | Polarisation | Angle of incidence | Wavelength range | Reflection / Transmission / Dispersion |
| Ti:Sapphireレーザ用 | ||||||
| 6 | > 10 | HR | unpol. | 0° | 700 - 1000 nm | R > 99.9 % |
| 3 | 0 | HR | unpol. | 0° | 700 - 1000 nm | R < 99.9 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 720 - 920 nm | R > 99.9 % |
| GDD | 790-815nm | -550fs2 | ||||
| 1 | 9 | HR | unpol. | 0° | 740 - 1030 nm | R > 99.8 % |
| 1 | 5 | HR | s,p-Pol. | 0 - 10° | 1030 nm | R > 99.95 % |
| 1 | 3 | HR | s,p-Pol. | 0 - 10° | 1030 nm | R > 99.95 % |
| 1 | 4 | HR | s,p-Pol. | 0 - 10° | 1030 nm | R > 99.95 % |
| 1 | 2 | HR | s,p-Pol. | 0 - 10° | 1040 nm | R > 99.95 % |
| 1 | 4 | HR | s,p-Pol. | 0 - 10° | 1040 nm | R > 99.95 % |
| 1 | 4 | HR | s,p-Pol. | 0 - 10° | 1040 nm | R > 99.95 % |
| Yb:YAGレーザ用 | ||||||
| 1 | 4 | HR | unpol. | 0° | 940 - 1150 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 5 | HR | unpol. | 0° | 980 - 1150 nm | R > 99.8 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 1000 - 1065 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 1015-1075nm | R > 99.95 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 1015-1075nm | R > 99.9 % |
| 1 | 7 | HR | unpol. | 0° | 1018 - 1038 nm | R > 99.9 % |
| 2 | 3 | HR | unpol. | 0-10° | 1020-1080nm | R > 99.9 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 1025 - 1045 nm | R > 99.85 % |
| 1 | 9 | HR | unpol. | 6° | 1030 nm | R > 99.9 % |
| 1 | >10 | HR | unpol. | 0 - 12° | 1030 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 10 | HR | unpol. | 0 - 10° | 1030 nm | R > 99.9 % |
| 4 | > 10 | HR | unpol. | 0-10° | 1030 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 1 | HR | unpol. | 0° | 1035 - 1050 nm | R > 99.8 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 1040 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0 - 10° | 1040 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 1 | HR | unpol. | 0 - 14° | 1045 nm | R > 99.9 % |
| Nd:YAGレーザ用 | ||||||
| 1 | 2 | HR | unpol. | 0-10° | 950 - 1130 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 980 - 1150 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 5 | HR | unpol. | 0° | 1040 - 1070 nm | R > 99.9 % |
What_'s new
お知らせ
2026/6/02
川越オフィス臨時クローズのお知らせ(2026年6月3日)
お知らせ
2026/4/15
OPIE’26出展のお知らせ(2026年4月22日~24日)
お知らせ
2026/4/09
Webサイトをリニューアルいたしました
お知らせ
2025/12/18
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2025/7/05
COMNEXTで講演します(2025年7月31日)
お知らせ
2025/6/20
OPK2025出展のお知らせ(2025年7月16日~7月17日)
お知らせ
2025/4/18
OPIE’25出展のお知らせ(2025年4月23日~25日)(更新)
お知らせ
2025/2/19
OFC 出展のお知らせ(2025年4月1日~3日)
お知らせ
2024/12/06
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2024/5/20
OPK’24出展のお知らせ(2024.6.26更新)
お知らせ
2024/3/21
OFC 2024出展のお知らせ(3月26日~28日)
お知らせ
2024/1/29
OPIE’24出展のお知らせ(2024/03/29続報)
お知らせ
2023/11/28
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2023/11/17
[重要] 弊社代表FAXの不具合について(2023.11.17)
お知らせ
2023/4/04
2023年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2023/3/30
[重要] 弊社代表FAXの不具合について
お知らせ
2022/12/06
今年度年末年始の営業予定について
お知らせ
2022/8/09
2022年夏季営業について
お知らせ
2022/4/22
2022年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2022/2/16
SPECK SENSORSYSTEME社のCRD吸収係数測定システムの販売を開始しました。
お知らせ
2022/2/16
NANOLN社のLiNbO3, LiTaO3単結晶薄膜の販売を開始しました。
お知らせ
2020/5/03
Dimension Technology社のコネクタ端面検査装置の販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/31
Stable Laser Systems社のサブHz、Hz線幅レーザとコンポーネントの販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/23
World Star Tech社のパソコン制御LD光源の販売を開始しました
お知らせ
2020/3/05
WL Photonics社の780 -1000 nmチューナブルフィルタの販売を開始しました
お知らせ
2020/3/03
Spectrolight社のイメージング・照明用波長セレクタ(Flexible Wavelength Selector)の販売を開始しました
Search by product category
| Different Articles | Stock | Type | Polarisation | Angle of incidence | Wavelength range | Reflection / Transmission / Dispersion |
| 1 | 0 | HR | s,p-Pol. | 0 - 45° | 260 - 360 nm | R > 90 % |
| 1 | 0 | HR | s,p-Pol. | 0 - 45° | 266 nm | R > 80 % |
| 400 nm | ||||||
| 800 nm | ||||||
| 1 | 10 | HR | unpol. | 0 - 45° | 525 - 575 nm | R > 99 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 600 - 2000 nm | |
| 2 | 0 | HR | s,p-Pol. | 0 - 45° | 670 - 970 nm | R > 97 % |
| 1 | 6 | HR | unpol. | 0 - 45° | 700 - 5000 nm | R > 97 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 800 - 20000 nm | R > 98 % |
| s-Pol. | 45° | |||||
| p-Pol. | R > 97 % | |||||
| 1 | 0 | HR | s,p-Pol. | 45° | 400 - 700 nm | R > 98 % |
| 1 | 5 | HR | unpol. | 45° | 515 nm | R > 99.9 % |
| 1030 nm | R 99.9 % | |||||
| R | 630 - 660 nm | R > 93 % | ||||
| 1 | >10 | HR | unpol. | 45° | 532 nm | R > 99.5 % |
| 1064 nm | ||||||
| PR | 630 - 660 nm | R > 90 % | ||||
| 1 | > 10 | HR | unpol. | 45° | 700 - 900 nm | R > 99 % |
| 2 | 7 | HR | unpol. | 45° | 700 - 900 nm | R > 99 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 45° | 750 - 850 nm | R > 99.5 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 45° | 798 - 990 nm | R > 99 % |
| 808 - 980 nm | R 99.5 % | |||||
| HT | p-Pol. | 808 nm | R 10 % | |||
| 1 | 0 | HR | unpol. | 45° | 1050 - 1550 nm | R > 98 % |
| 1 | 2 | HR | unpol. | 600-1000nm | ||
| 2 | 1 | HR | unpol. | 600 - 2000 nm | 0fs2 |
What_'s new
お知らせ
2026/6/02
川越オフィス臨時クローズのお知らせ(2026年6月3日)
お知らせ
2026/4/15
OPIE’26出展のお知らせ(2026年4月22日~24日)
お知らせ
2026/4/09
Webサイトをリニューアルいたしました
お知らせ
2025/12/18
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2025/7/05
COMNEXTで講演します(2025年7月31日)
お知らせ
2025/6/20
OPK2025出展のお知らせ(2025年7月16日~7月17日)
お知らせ
2025/4/18
OPIE’25出展のお知らせ(2025年4月23日~25日)(更新)
お知らせ
2025/2/19
OFC 出展のお知らせ(2025年4月1日~3日)
お知らせ
2024/12/06
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2024/5/20
OPK’24出展のお知らせ(2024.6.26更新)
お知らせ
2024/3/21
OFC 2024出展のお知らせ(3月26日~28日)
お知らせ
2024/1/29
OPIE’24出展のお知らせ(2024/03/29続報)
お知らせ
2023/11/28
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2023/11/17
[重要] 弊社代表FAXの不具合について(2023.11.17)
お知らせ
2023/4/04
2023年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2023/3/30
[重要] 弊社代表FAXの不具合について
お知らせ
2022/12/06
今年度年末年始の営業予定について
お知らせ
2022/8/09
2022年夏季営業について
お知らせ
2022/4/22
2022年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2022/2/16
SPECK SENSORSYSTEME社のCRD吸収係数測定システムの販売を開始しました。
お知らせ
2022/2/16
NANOLN社のLiNbO3, LiTaO3単結晶薄膜の販売を開始しました。
お知らせ
2020/5/03
Dimension Technology社のコネクタ端面検査装置の販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/31
Stable Laser Systems社のサブHz、Hz線幅レーザとコンポーネントの販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/23
World Star Tech社のパソコン制御LD光源の販売を開始しました
お知らせ
2020/3/05
WL Photonics社の780 -1000 nmチューナブルフィルタの販売を開始しました
お知らせ
2020/3/03
Spectrolight社のイメージング・照明用波長セレクタ(Flexible Wavelength Selector)の販売を開始しました
Search by product category
| Different Articles | Stock | Type | Polarisation | Angle of incidence | Wavelength range | Reflection / Transmission / Dispersion |
| 8 | 2 | HR | unpol. | 0° | 157 nm | |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 220 - 280 nm | R > 90 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 248nm | R > 85% |
| 352nm | ||||||
| 5 | >10 | HR | s,p-Pol. | 0 - 45° | 260 - 360 nm | R > 90 % |
| 2 | 5 | HR | unpol. | 0° | 266 nm | R > 85% |
| 405 nm | ||||||
| 4 | 0 | HR | unpol. | 0 - 45° | 266 nm | R > 85 % |
| 405 nm | ||||||
| 810 nm | ||||||
| 5 | >10 | HR | s,p-Pol. | 0 - 45° | 266 nm | R > 80 % |
| 400 nm | ||||||
| 800 nm | ||||||
| 1 | 2 | HR | unpol. | 0° | 266 - 450 nm | R > 90 % |
| 12 | 5 | HR | unpol. | 0° | 400-700nm | R > 98 % |
| 1 | 0 | HR | 0° | 550 - 1250 nm | R > 98 % | |
| 6 | 2 | HR | unpol. | 0° | 550 - 1250 nm | R > 98 % |
| 2 | 1 | HR | unpol. | 0° | 550 - 1250 nm | R > 98 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 550 - 1250 nm | R 98 % |
| 1 | 1 | HR | unpol. | 0° | 570 - 1000 nm | R > 98 % |
| GDD | 10 fs² | |||||
| 2 | 0 | HR | 0° | 600 - 1000 nm | R > 98 % | |
| 12 | > 10 | HR | unpol. | 0 - 45° | 600 - 1000 nm | R > 98.5% |
| GDD | 550 - 1050 nm | 0 fs² | ||||
| 1 | 5 | HR | unpol. | 0° | 600 - 1000 nm | R > 98 % |
| 2 | 0 | HR | unpol. | 0° | 600 - 1000 nm | R > 98 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 600 - 1000 nm | R 98 % |
| 6 | > 10 | HR | unpol. | 0° | 600 - 1000 nm | R > 97 % |
| s-Pol. | 45° | R > 96 % | ||||
| p-Pol. | ||||||
| 9 | 0 | HR | s,p-Pol. | 0 - 45° | 600 - 1000 nm | R > 98.5 % |
| GDD | unpol. | 550 - 1050 nm | 0 fs² | |||
| 1 | 0 | HR | 0° | 600 - 2000 nm | R 98 % | |
| 2 | 1 | HR | unpol. | 0° | 600 - 2000 nm | R > 98 % |
| 2 | 0 | HR | unpol. | 0° | 600 - 2000 nm | R 98 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 600 - 2000 nm | R > 98 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 600 - 2000 nm | R > 98 % |
| 5 | 7 | HR | unpol. | 0° | 600 - 2000 nm | R > 98 % |
| 3 | 9 | HR | unpol. | 0° | 600 - 2000 nm | |
| 2 | > 10 | HR | unpol. | 0° | 650 - 900 nm | R > 98.5 % |
| 4 | >10 | HR | s,p-Pol. | 0 - 45° | 670 - 970 nm | R > 97 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 700 - 900 nm | R > 99 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 700 - 900 nm | R > 99 % |
| GDD | 10 fs² | |||||
| 1 | 5 | HR | unpol. | 0° | 700 - 900 nm | R > 99 % |
| 2 | 0 | HR | unpol. | 0° | 700 - 900 nm | R > 99 % |
| 1 | 0 | HR | 0° | 700 - 1000 nm | R >= 98.5 % | |
| GDD | unpol. | 10 fs² | ||||
| 1 | 0 | HR | 0° | 700 - 1000 nm | R > 98.5 % | |
| 1 | 2 | HR | unpol. | 0° | 700 - 1000 nm | R > 98.5 % |
| GDD | 10 fs² | |||||
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 700 - 1000 nm | R > 98.5 % |
| GDD | 10 fs² | |||||
| 1 | 3 | HR | unpol. | 0° | 700 - 1000 nm | R > 98.5 % |
| GDD | 0 fs² | |||||
| 9 | > 10 | HR | unpol. | 0° | 700 - 1000 nm | R > 98.5 % |
| 3 | 6 | HR | unpol. | 0° | 700 - 1000 nm | R > 98.5 % |
| 1 | 4 | HR | unpol. | 0° | 730 - 990 nm | R > 98 % |
| 8 | > 10 | HR | unpol. | 0° | 800 - 2000 nm | R > 98 % |
| 2000 - 10000 nm | R 99 % | |||||
| 7 | 3 | HR | unpol. | 0° | 800 - 2000 nm | R > 98 % |
| 2000 - 10000 nm | R > 99 % | |||||
| 1 | 2 | HR | unpol. | 0-45° | 800 - 2000 nm | R > 98 % |
| 2000 - 10000 nm | R > 99 % | |||||
| 1 | 2 | HR | unpol. | 0° | 800 - 2000 nm | R 98 % |
| 2000 - 10000 nm | R 99 % | |||||
| 2 | 0 | HR | unpol. | 0-45° | 800 - 2000 nm | R > 98 % |
| 2000 - 10000 nm | R > 99 % | |||||
| 1 | 2 | HR | unpol. | 0° | 800 - 2000 nm | R > 98 % |
| R | 2000 - 10000 nm | R > 99 % | ||||
| 6 | >10 | HR | unpol. | 0° | 800 - 2000 nm | R > 97 % |
| s-Pol. | 45° | R > 98 % | ||||
| p-Pol. | R > 97 % | |||||
| 6 | > 10 | HR | unpol. | 0° | 800 - 4000 nm | R > 95 % |
| s-Pol. | 45° | |||||
| p-Pol. | R > 94 % | |||||
| 5 | > 10 | HR | unpol. | 0° | 800 - 20000 nm | R > 98 % |
| s-Pol. | 45° | |||||
| p-Pol. | R > 97 % | |||||
| 1 | 1 | HR | 0° | 1000 - 10000 nm | ||
| 2 | 1 | HR | unpol. | 0° | 1000 - 10000 nm | |
| 1 | > 10 | HR | unpol. | 0° | 1700 - 2400 nm | R > 99 % |
| 1 | 2 | HR | unpol. | 0° | 1700 - 2400 nm | R > 99 % |
| 1 | 2 | HR | unpol. | 22.5° | 1020 - 1040 nm | R 99.9 % |
| 1 | 0 | HR | 45° | 400 - 700 nm | R > 98 % | |
| GDD | s,p-Pol. | 60 fs² | ||||
| 1 | 1 | HR | s,p-Pol. | 45° | 400 - 700 nm | R > 98 % |
| GDD | 60 fs² | |||||
| 1 | > 10 | HR | unpol. | 45° | 515 nm | R > 99.9 % |
| 1030 nm | ||||||
| R | 630 - 660 nm | R > 93 % | ||||
| 1 | 9 | HR | unpol. | 45° | 700 - 900 nm | R > 98 % |
| T | 800 nm | R ~ 0.03 % (± 0.02 %) | ||||
| 1 | 0 | HR | unpol. | 45° | 1050 - 1500 nm | R > 99 % |
| 1 | 3 | HR | unpol. | |||
| 1 | 5 | Al enhanced, 220 – 280nm opt. | ||||
| 14 | > 10 | HR | unpol. | 220 - 280 nm | ||
| 45 | >10 | HR | unpol. | 600 - 1000 nm | ||
| 13 | 10 | HR | unpol. | 600 - 2000 nm | 0fs2 | |
| 5 | 3 | HR | unpol. | 1000-10000nm | ||
| 27 | > 10 | R | unpol. | 0 - 45° | 266 nm | R > 85 % |
| 405 nm | ||||||
| 810 nm | ||||||
| 1 | 0 | R | unpol. | 0° | 266 nm | R > 85 % |
| 405 nm | ||||||
| 810 nm | ||||||
| 1 | 0 | R | unpol. | 0 - 45° | 266 nm | R > 85 % |
| 405 nm | ||||||
| 810 nm | ||||||
What_'s new
お知らせ
2026/6/02
川越オフィス臨時クローズのお知らせ(2026年6月3日)
お知らせ
2026/4/15
OPIE’26出展のお知らせ(2026年4月22日~24日)
お知らせ
2026/4/09
Webサイトをリニューアルいたしました
お知らせ
2025/12/18
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2025/7/05
COMNEXTで講演します(2025年7月31日)
お知らせ
2025/6/20
OPK2025出展のお知らせ(2025年7月16日~7月17日)
お知らせ
2025/4/18
OPIE’25出展のお知らせ(2025年4月23日~25日)(更新)
お知らせ
2025/2/19
OFC 出展のお知らせ(2025年4月1日~3日)
お知らせ
2024/12/06
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2024/5/20
OPK’24出展のお知らせ(2024.6.26更新)
お知らせ
2024/3/21
OFC 2024出展のお知らせ(3月26日~28日)
お知らせ
2024/1/29
OPIE’24出展のお知らせ(2024/03/29続報)
お知らせ
2023/11/28
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2023/11/17
[重要] 弊社代表FAXの不具合について(2023.11.17)
お知らせ
2023/4/04
2023年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2023/3/30
[重要] 弊社代表FAXの不具合について
お知らせ
2022/12/06
今年度年末年始の営業予定について
お知らせ
2022/8/09
2022年夏季営業について
お知らせ
2022/4/22
2022年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2022/2/16
SPECK SENSORSYSTEME社のCRD吸収係数測定システムの販売を開始しました。
お知らせ
2022/2/16
NANOLN社のLiNbO3, LiTaO3単結晶薄膜の販売を開始しました。
お知らせ
2020/5/03
Dimension Technology社のコネクタ端面検査装置の販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/31
Stable Laser Systems社のサブHz、Hz線幅レーザとコンポーネントの販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/23
World Star Tech社のパソコン制御LD光源の販売を開始しました
お知らせ
2020/3/05
WL Photonics社の780 -1000 nmチューナブルフィルタの販売を開始しました
お知らせ
2020/3/03
Spectrolight社のイメージング・照明用波長セレクタ(Flexible Wavelength Selector)の販売を開始しました
Search by product category
| Different Articles | Stock | Type | Polarisation | Angle of incidence | Wavelength range | Reflection / Transmission / Dispersion |
| 1 | 4 | HR | unpol. | 0° | 310 - 460 nm | R > 99.8 % |
| 1 | 4 | HR | unpol. | 0° | 315 - 450 nm | R > 99.8 % |
| GDD | 330 - 440 nm | -25 fs² | ||||
| 1 | > 10 | HR | unpol. | 0° | 330 - 440 nm | R > 99.8 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 360 - 480 nm | R > 99.5 % |
| GDD | 0 - 8° | 15 fs² | ||||
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 360 - 480 nm | R > 99.5 % |
| 4 | >10 | HR | unpol. | 0° | 470 - 810 nm | R > 99.7 % |
| 2 | 5 | HR | unpol. | 0° | 480 - 640 nm | R > 99.85 % |
| GDD | 480 - 630 nm | -70 ~ -40 fs² | ||||
| 4 | 8 | HR | unpol. | 0° | 480 - 660 nm | R > 99.85 % |
| GDD | -22 fs² | |||||
| 1 | 2 | HR | unpol. | 0° | 500 - 930 nm | R > 99.6 % |
| 2 | 0 | HR | unpol. | 7° | 500 - 1000 nm | R > 99.4 % |
| 3 | 1 | HR | unpol. | 0 - 15° | 510 - 920 nm | R > 99.5 - 99.8 % |
| 2 | 0 | HR | unpol. | 0° | 540 - 1040 nm | R > 99.7 % |
| GDD | 570 - 1040 nm | -40 fs² | ||||
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 540 - 1040 nm | R 99.6 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 570 - 820 nm | R > 99.85 % |
| GDD | -25 fs² | |||||
| 4 | > 10 | HR | unpol. | 0° | 570 - 1040 nm | R > 99.7 % |
| 1 | 3 | HR | unpol. | 0° | 570 - 1040 nm | R > 99.7 % |
| 5 | > 10 | HR | unpol. | 0° | 600 - 900 nm | R > 99.7 % |
| 1 | 6 | HR | unpol. | 0° | 600 - 950 nm | R > 99.9 % |
| 3 | 10 | HR | unpol. | 0° | 600 - 1000 nm | R > 99.6 % |
| 1 | 8 | HR | unpol. | 0° | 620 - 1000 nm | R > 99.85 % |
| 3 | 7 | HR | unpol. | 0° | 620 - 1050 nm | R > 99.9 % |
| R | 490 - 540 nm | R < 5 % | ||||
| 3 | 1 | HR | unpol. | 0° | 620 - 1050 nm | R > 99.8 % |
| R | 490 - 535 nm | R < 5 % | ||||
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 640 - 1000 nm | R > 99.9 % |
| R | 510 - 545 nm | R < 10 % | ||||
| 2 | 0 | HR | unpol. | 0° | 650 - 1000 nm | R > 99.9 % |
| 6 | >10 | HR | unpol. | 0° | 650 - 1000 nm | R > 99.8 % |
| 1 | 7 | HR | unpol. | 0° | 670 - 1020 nm | R > 99.8 % |
| GDD | 730 - 850 nm | 125 fs² | ||||
| 1 | 4 | HR | unpol. | 0° | 680 - 980 nm | R > 99.6 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 680 - 980 nm | R > 99.6 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 680 - 1020 nm | R > 99.8 % |
| R | 490 - 530 nm | R < 5 % | ||||
| 1 | 6 | HR | 0° | 700 - 900 nm | R > 99.9 % | |
| 3 | 6 | HR | unpol. | 0° | 700 - 900 nm | R > 99.9 % |
| 2 | 5 | HR | unpol. | 0° | 700 - 900 nm | R > 99.8 % |
| 3 | 3 | HR | unpol. | 0° | 700 - 970 nm | R > 99.85 % |
| GDD | 700 - 950 nm | -60 ~-30 fs² | ||||
| 1 | 4 | HR | 0° | 710 - 940 nm | R > 99.9 % | |
| GDD | 0 - 12° | 740 - 870 nm | -350~ 350 fs² | |||
| 1 | 6 | HR | unpol. | 0° | 720 - 1000 nm | R > 99.8 % |
| R | 510 - 545 nm | R < 15 % | ||||
| 1 | 3 | HR | unpol. | 0° | 720 - 1000 nm | R > 99.8 % |
| R | 510 - 545 nm | R < 15 % | ||||
| 1 | 3 | HR | unpol. | 0° | 730 - 970 nm | R > 99.8 % |
| GDD | -70 fs² | |||||
| 2 | 4 | HR | unpol. | 0° | 1040 - 1460 nm | R > 99.8 % |
| 3 | 3 | HR | unpol. | 0° | 1060 - 1600 nm | R > 99.8 % |
| 1 | 2 | PR | 0° | 430 - 690 nm | R = 99.5 % (± 0.3 %) | |
| 1 | 2 | AR | 0° | 430 - 680 nm | R < 0.3 % | |
| 7 | 8 | AR | unpol. | 0° | 480 - 570 nm | R < 0.25 % |
| 1 | 0 | AR | unpol. | 0° | 510 - 545 nm | R < 0.25 % |
| 1 | 3 | AR | unpol. | 0° | 532 nm | R < 0.2 % |
| 1 | 6 | AR | unpol. | 0° | 532 nm | R < 0.25 % |
What_'s new
お知らせ
2026/6/02
川越オフィス臨時クローズのお知らせ(2026年6月3日)
お知らせ
2026/4/15
OPIE’26出展のお知らせ(2026年4月22日~24日)
お知らせ
2026/4/09
Webサイトをリニューアルいたしました
お知らせ
2025/12/18
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2025/7/05
COMNEXTで講演します(2025年7月31日)
お知らせ
2025/6/20
OPK2025出展のお知らせ(2025年7月16日~7月17日)
お知らせ
2025/4/18
OPIE’25出展のお知らせ(2025年4月23日~25日)(更新)
お知らせ
2025/2/19
OFC 出展のお知らせ(2025年4月1日~3日)
お知らせ
2024/12/06
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2024/5/20
OPK’24出展のお知らせ(2024.6.26更新)
お知らせ
2024/3/21
OFC 2024出展のお知らせ(3月26日~28日)
お知らせ
2024/1/29
OPIE’24出展のお知らせ(2024/03/29続報)
お知らせ
2023/11/28
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2023/11/17
[重要] 弊社代表FAXの不具合について(2023.11.17)
お知らせ
2023/4/04
2023年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2023/3/30
[重要] 弊社代表FAXの不具合について
お知らせ
2022/12/06
今年度年末年始の営業予定について
お知らせ
2022/8/09
2022年夏季営業について
お知らせ
2022/4/22
2022年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2022/2/16
SPECK SENSORSYSTEME社のCRD吸収係数測定システムの販売を開始しました。
お知らせ
2022/2/16
NANOLN社のLiNbO3, LiTaO3単結晶薄膜の販売を開始しました。
お知らせ
2020/5/03
Dimension Technology社のコネクタ端面検査装置の販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/31
Stable Laser Systems社のサブHz、Hz線幅レーザとコンポーネントの販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/23
World Star Tech社のパソコン制御LD光源の販売を開始しました
お知らせ
2020/3/05
WL Photonics社の780 -1000 nmチューナブルフィルタの販売を開始しました
お知らせ
2020/3/03
Spectrolight社のイメージング・照明用波長セレクタ(Flexible Wavelength Selector)の販売を開始しました
Search by product category
| Different Articles | Stock | Type | Polarisation | Angle of incidence | Wavelength range | Reflection / Transmission / Dispersion |
| 1 | 3 | HR | unpol. | 0° | 350 - 450 nm | R > 99.8 % |
| 1 | 3 | HR | unpol. | 0° | 480-640nm | R > 99.8 5% |
| GDD | 480-630nm | -70~-40fs2 | ||||
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 520 - 540 nm | R > 99.9 % |
| 6 | 7 | HR | unpol. | 0° | 630 - 1140 nm | R > 99.85 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 650 - 1100 nm | R > 99.8 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 680 - 870 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 3 | HR | unpol. | 0° | 700 - 870 nm | R > 99.9 % |
| GDD | 725 - 880 nm | -40 fs² | ||||
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 700 - 870 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 7 | HR | unpol. | 0° | 700 - 970 nm | R > 99.8 % |
| 2 | 2 | HR | unpol. | 0° | 700 - 970 nm | R > 99.8 % |
| 3 | 2 | HR | unpol. | 0° | 700 - 1000 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 2 | HR | unpol. | 0° | 700 - 1000 nm | R > 99.9 % |
| 3 | 5 | HR | unpol. | 0° | 720 - 880 nm | R > 99.99 % |
| 1 | 3 | HR | unpol. | 0 - 12° | 720 - 880 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 750 - 830 nm | R > 99.75 % |
| 2 | >10 | HR | unpol. | 0° | 750 - 850 nm | R > 99.9 % |
| R | 532nm | R < 3% | ||||
| GDD | 750 - 840 nm | -120fs2 | ||||
| 1 | 1 | HR | 0° | 750 - 900 nm | R > 99.9 % | |
| 1 | 6 | HR | unpol. | 0° | 760 - 930 nm | R > 99.95 % |
| GDD | 760 - 860 nm | -20 fs² | ||||
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 770 - 795 nm | R > 99.9 % |
| 1 | >10 | HR | unpol. | 0° | 780 - 805 nm | R > 99.9 % |
| 2 | 3 | HR | unpol. | 0° | 950 - 1170 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 6 | HR | unpol. | 0° | 950 - 1200 nm | R > 99.9 % |
| GDD | 0 - 12° | 1030 nm | -250 fs² | |||
| 1 | 1 | HR | unpol. | 0 - 3° | 970 - 1100 nm | R > 99.95 % |
| GDD | 1030 nm | 800 fs² | ||||
| 1060 nm | 0 fs² | |||||
| 2 | 1 | HR | unpol. | 0° | 970 - 1120 nm | R > 99.9 % |
| GDD | 1040 nm | -1300 fs² | ||||
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 970 - 1120 nm | R > 99.9 % |
| GDD | 1040 nm | -1300 fs² | ||||
| 1 | 2 | HR | unpol. | 0° | 980 - 1040 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 5 | HR | unpol. | 0° | 990 - 1050 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 1 | HR | unpol. | 0 - 5° | 990 - 1060 nm | R > 99.6 % |
| 3 | >10 | HR | unpol. | 0° | 1000 - 1065 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 7 | HR | unpol. | 0° | 1000 - 1065 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 3 | HR | unpol. | 0 - 10° | 1020 - 1030 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 4 | HR | unpol. | 0° | 1030 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 8 | HR | unpol. | 0 - 12° | 1030 - 1040 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 4 | HR | unpol. | 0° | 1035 - 1055 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0 - 10° | 1035 - 1055 nm | R > 99.9 % |
| 1 | > 10 | HR | unpol. | 0 - 10° | 1040 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 1 | HR | unpol. | 0° | 1040 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 3 | HR | unpol. | 0-14° | 1045 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 2 | HR | unpol. | 0 - 10° | 1064 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 1185 - 1365 nm | R > 99.9 % |
| 2 | 0 | HR | – | 0° | 1200 - 1300 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 4 | HR | s-Pol. | 30° | 1480 - 1680 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 0 | HR | s-Pol. | 30° | 1580 nm | R > 99.9 % |
| 1 | 0 | HR | p-Pol. | 45° | 640 - 940 nm | R > 99.8 % |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 1030 nm | R > 99.95 % | |
| 1 | 8 | AR | unpol. | 0° | 532nm | R < 0.2 % |
| 1 | 3 | AR | unpol. | 0° | 532nm | R 0.2 % |
| 1 | 0 | AR | unpol. | 0° | 720 - 880 nm | R < 0.25 % |
What_'s new
お知らせ
2026/6/02
川越オフィス臨時クローズのお知らせ(2026年6月3日)
お知らせ
2026/4/15
OPIE’26出展のお知らせ(2026年4月22日~24日)
お知らせ
2026/4/09
Webサイトをリニューアルいたしました
お知らせ
2025/12/18
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2025/7/05
COMNEXTで講演します(2025年7月31日)
お知らせ
2025/6/20
OPK2025出展のお知らせ(2025年7月16日~7月17日)
お知らせ
2025/4/18
OPIE’25出展のお知らせ(2025年4月23日~25日)(更新)
お知らせ
2025/2/19
OFC 出展のお知らせ(2025年4月1日~3日)
お知らせ
2024/12/06
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2024/5/20
OPK’24出展のお知らせ(2024.6.26更新)
お知らせ
2024/3/21
OFC 2024出展のお知らせ(3月26日~28日)
お知らせ
2024/1/29
OPIE’24出展のお知らせ(2024/03/29続報)
お知らせ
2023/11/28
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2023/11/17
[重要] 弊社代表FAXの不具合について(2023.11.17)
お知らせ
2023/4/04
2023年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2023/3/30
[重要] 弊社代表FAXの不具合について
お知らせ
2022/12/06
今年度年末年始の営業予定について
お知らせ
2022/8/09
2022年夏季営業について
お知らせ
2022/4/22
2022年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2022/2/16
SPECK SENSORSYSTEME社のCRD吸収係数測定システムの販売を開始しました。
お知らせ
2022/2/16
NANOLN社のLiNbO3, LiTaO3単結晶薄膜の販売を開始しました。
お知らせ
2020/5/03
Dimension Technology社のコネクタ端面検査装置の販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/31
Stable Laser Systems社のサブHz、Hz線幅レーザとコンポーネントの販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/23
World Star Tech社のパソコン制御LD光源の販売を開始しました
お知らせ
2020/3/05
WL Photonics社の780 -1000 nmチューナブルフィルタの販売を開始しました
お知らせ
2020/3/03
Spectrolight社のイメージング・照明用波長セレクタ(Flexible Wavelength Selector)の販売を開始しました
Search by product category
| Different Articles | Stock | Type | Polarisation | Angle of incidence | Wavelength range | Reflection / Transmission / Dispersion |
| 1 | 1 | AR | – | 0° | 400 nm | R < 0.3 % |
| 800 nm | ||||||
| 1 | 1 | AR | unpol. | 0° | 400 nm | R < 0.3 % |
| 800 nm |
What_'s new
お知らせ
2026/6/02
川越オフィス臨時クローズのお知らせ(2026年6月3日)
お知らせ
2026/4/15
OPIE’26出展のお知らせ(2026年4月22日~24日)
お知らせ
2026/4/09
Webサイトをリニューアルいたしました
お知らせ
2025/12/18
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2025/7/05
COMNEXTで講演します(2025年7月31日)
お知らせ
2025/6/20
OPK2025出展のお知らせ(2025年7月16日~7月17日)
お知らせ
2025/4/18
OPIE’25出展のお知らせ(2025年4月23日~25日)(更新)
お知らせ
2025/2/19
OFC 出展のお知らせ(2025年4月1日~3日)
お知らせ
2024/12/06
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2024/5/20
OPK’24出展のお知らせ(2024.6.26更新)
お知らせ
2024/3/21
OFC 2024出展のお知らせ(3月26日~28日)
お知らせ
2024/1/29
OPIE’24出展のお知らせ(2024/03/29続報)
お知らせ
2023/11/28
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2023/11/17
[重要] 弊社代表FAXの不具合について(2023.11.17)
お知らせ
2023/4/04
2023年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2023/3/30
[重要] 弊社代表FAXの不具合について
お知らせ
2022/12/06
今年度年末年始の営業予定について
お知らせ
2022/8/09
2022年夏季営業について
お知らせ
2022/4/22
2022年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2022/2/16
SPECK SENSORSYSTEME社のCRD吸収係数測定システムの販売を開始しました。
お知らせ
2022/2/16
NANOLN社のLiNbO3, LiTaO3単結晶薄膜の販売を開始しました。
お知らせ
2020/5/03
Dimension Technology社のコネクタ端面検査装置の販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/31
Stable Laser Systems社のサブHz、Hz線幅レーザとコンポーネントの販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/23
World Star Tech社のパソコン制御LD光源の販売を開始しました
お知らせ
2020/3/05
WL Photonics社の780 -1000 nmチューナブルフィルタの販売を開始しました
お知らせ
2020/3/03
Spectrolight社のイメージング・照明用波長セレクタ(Flexible Wavelength Selector)の販売を開始しました
Search by product category
| Different Articles | Stock | Type | Polarisation | Angle of incidence | Wavelength range | Reflection / Transmission / Dispersion |
| 1 | 0 | AR | unpol. | 0° | 450 - 1000 nm | R < 1.5 % |
| 1 | 0 | AR | unpol. | 0° | 450 - 1000 nm | R < 1.5 % |
| 1 | 0 | AR | unpol. | 0° | 550 - 1100 nm | R < 1.5 % |
| 1 | 0 | AR | unpol. | 0° | 550 - 1100 nm | R < 1.5 % |
| 1 | 6 | AR | unpol. | 0° | 600 - 1000 nm | R < 0.5 % |
| 1 | 6 | AR | unpol. | 0° | 600 - 1000 nm | R < 0.5 % |
| 1 | 1 | AR | unpol. | 0° | 600 - 1080 nm | R < 0.5 % |
| 1 | 1 | AR | unpol. | 0° | 600 - 1080 nm | R < 0.5 % |
| 1 | 0 | AR | unpol. | 0 - 20° | 700 - 900 nm | R < 0.5 % |
| 1 | 0 | AR | unpol. | 0 - 20° | 700 - 900 nm | R < 0.5 % |
| 1 | 0 | AR | unpol. | 0° | 750 - 850 nm | R < 0.2 % |
| 1 | 0 | AR | unpol. | 0° | 750 - 850 nm | R < 0.2 % |
What_'s new
お知らせ
2026/6/02
川越オフィス臨時クローズのお知らせ(2026年6月3日)
お知らせ
2026/4/15
OPIE’26出展のお知らせ(2026年4月22日~24日)
お知らせ
2026/4/09
Webサイトをリニューアルいたしました
お知らせ
2025/12/18
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2025/7/05
COMNEXTで講演します(2025年7月31日)
お知らせ
2025/6/20
OPK2025出展のお知らせ(2025年7月16日~7月17日)
お知らせ
2025/4/18
OPIE’25出展のお知らせ(2025年4月23日~25日)(更新)
お知らせ
2025/2/19
OFC 出展のお知らせ(2025年4月1日~3日)
お知らせ
2024/12/06
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2024/5/20
OPK’24出展のお知らせ(2024.6.26更新)
お知らせ
2024/3/21
OFC 2024出展のお知らせ(3月26日~28日)
お知らせ
2024/1/29
OPIE’24出展のお知らせ(2024/03/29続報)
お知らせ
2023/11/28
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2023/11/17
[重要] 弊社代表FAXの不具合について(2023.11.17)
お知らせ
2023/4/04
2023年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2023/3/30
[重要] 弊社代表FAXの不具合について
お知らせ
2022/12/06
今年度年末年始の営業予定について
お知らせ
2022/8/09
2022年夏季営業について
お知らせ
2022/4/22
2022年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2022/2/16
SPECK SENSORSYSTEME社のCRD吸収係数測定システムの販売を開始しました。
お知らせ
2022/2/16
NANOLN社のLiNbO3, LiTaO3単結晶薄膜の販売を開始しました。
お知らせ
2020/5/03
Dimension Technology社のコネクタ端面検査装置の販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/31
Stable Laser Systems社のサブHz、Hz線幅レーザとコンポーネントの販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/23
World Star Tech社のパソコン制御LD光源の販売を開始しました
お知らせ
2020/3/05
WL Photonics社の780 -1000 nmチューナブルフィルタの販売を開始しました
お知らせ
2020/3/03
Spectrolight社のイメージング・照明用波長セレクタ(Flexible Wavelength Selector)の販売を開始しました
Search by product category
| Different Articles | Stock | Type | Polarisation | Angle of incidence | Wavelength range | Reflection / Transmission / Dispersion |
| 1 | 0 | HR | s-Pol. | 45° | 800 nm | R > 99.8 % |
| R | p-Pol. | R < 2 % | ||||
| 1 | 0 | HR | s-Pol. | 80° | 700 - 900 nm | R > 90 % |
| R | p-Pol. | 710 - 890 nm | R < 5 % | |||
| GDD | s-Pol. | 700 - 900 nm | 0 fs² | |||
| 2 | 0 | HR | s-Pol. | 80° | 700 - 900 nm | R > 90 % |
| R | p-Pol. | 710 - 890 nm | R < 5 % | |||
| 1 | 0 | HR | s-Pol. | 80° | 700 - 900 nm | R > 90 % |
| R | p-Pol. | 710 - 890 nm | R < 5 % | |||
| 1 | 3 | HR | s-Pol. | 65° | 750 - 825 nm | R > 99.8 % |
| R | p-Pol. | 765 - 850 nm | R < 2 % | |||
| 1 | 2 | HR | s-Pol. | 65° | 780 - 860 nm | R > 99.8 % |
| HT | p-Pol. | R 2 % | ||||
| 1 | 0 | HR | s-Pol. | 80° | 990 - 1090 nm | R > 92 % |
| R | p-Pol. | R < 5 % | ||||
| 1 | 0 | PR | s-Pol. | 70° | 600 - 1000 nm | R = 80 % (± 4 %) |
| R | p-Pol. | R < 5 % | ||||
| 1 | 0 | R | s-Pol. | 70° | 600 - 1000 nm | R = 80 % (± 4 %) |
| p-Pol. | R < 5 % | |||||
| 1 | 0 | AR | p-Pol. | 70° | 600 - 1000 nm | R < 1 % |
| 1 | 0 | AR | p-Pol. | 80° | 700 - 900 nm | R < 3 % |
| 1 | 3 | AR | p-Pol. | 65° | 740 - 900 nm | R < 0.1 % |
| 1 | 0 | AR | p-Pol. | 80° | 990 - 1090 nm | R < 2 % |
What_'s new
お知らせ
2026/6/02
川越オフィス臨時クローズのお知らせ(2026年6月3日)
お知らせ
2026/4/15
OPIE’26出展のお知らせ(2026年4月22日~24日)
お知らせ
2026/4/09
Webサイトをリニューアルいたしました
お知らせ
2025/12/18
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2025/7/05
COMNEXTで講演します(2025年7月31日)
お知らせ
2025/6/20
OPK2025出展のお知らせ(2025年7月16日~7月17日)
お知らせ
2025/4/18
OPIE’25出展のお知らせ(2025年4月23日~25日)(更新)
お知らせ
2025/2/19
OFC 出展のお知らせ(2025年4月1日~3日)
お知らせ
2024/12/06
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2024/5/20
OPK’24出展のお知らせ(2024.6.26更新)
お知らせ
2024/3/21
OFC 2024出展のお知らせ(3月26日~28日)
お知らせ
2024/1/29
OPIE’24出展のお知らせ(2024/03/29続報)
お知らせ
2023/11/28
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2023/11/17
[重要] 弊社代表FAXの不具合について(2023.11.17)
お知らせ
2023/4/04
2023年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2023/3/30
[重要] 弊社代表FAXの不具合について
お知らせ
2022/12/06
今年度年末年始の営業予定について
お知らせ
2022/8/09
2022年夏季営業について
お知らせ
2022/4/22
2022年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2022/2/16
SPECK SENSORSYSTEME社のCRD吸収係数測定システムの販売を開始しました。
お知らせ
2022/2/16
NANOLN社のLiNbO3, LiTaO3単結晶薄膜の販売を開始しました。
お知らせ
2020/5/03
Dimension Technology社のコネクタ端面検査装置の販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/31
Stable Laser Systems社のサブHz、Hz線幅レーザとコンポーネントの販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/23
World Star Tech社のパソコン制御LD光源の販売を開始しました
お知らせ
2020/3/05
WL Photonics社の780 -1000 nmチューナブルフィルタの販売を開始しました
お知らせ
2020/3/03
Spectrolight社のイメージング・照明用波長セレクタ(Flexible Wavelength Selector)の販売を開始しました
Search by product category
| Different Articles | Stock | Type | Polarisation | Angle of incidence | Wavelength range | Reflection / Transmission / Dispersion |
| 1 | 0 | HR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 99 % (± 0.5 %) |
| 1 | 3 | HR | unpol. | 45° | 760 - 850 nm | R > 99.9 % |
| R | 360 - 440 nm | R < 2 % | ||||
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 350 - 470 nm | R = 50 % (± 5 %) |
| 1 | 0 | PR | s-Pol. | 45° | 370 - 430 nm | R = 50 % (± 5 %) |
| 1 | 1 | PR | p-Pol. | 45° | 370 - 430 nm | R = 50 % (± 5 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 380 - 420 nm | R = 99 % (± 0.5 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 380 - 420 nm | R = 80 % (± 3 %) |
| 1 | 2 | PR | p-Pol. | 45° | 380 - 420 nm | R 70 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | s-Pol. | 45° | 440 - 1020 nm | R = 50 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | s-Pol. | 45° | 440 - 1020 nm | R = 50 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | s-Pol. | 45° | 450 - 1030 nm | R = 51 % (± 3 %) |
| 1 | 1 | PR | p-Pol. | 45° | 520 - 1100 nm | R = 20 % (± 4 %) |
| 1 | 1 | PR | p-Pol. | 45° | 520 - 1100 nm | R = 20 % (± 4 %) |
| 2 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 520 - 1100 nm | R = 10 % (± 3 %) |
| 2 | 3 | PR | p-Pol. | 45° | 540 - 950 nm | R = 80 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | s-Pol. | 45° | 550 - 1050 nm | R = 50 % (± 4 %) |
| 1 | 0 | PR | s-Pol. | 45° | 550 - 1050 nm | R = 50 % (± 4 %) |
| 1 | 0 | PR | s-Pol. | 45° | 550 - 1050 nm | R = 50 % (± 4 %) |
| 1 | 5 | PR | s-Pol. | 45° | 600 - 1000 nm | R = 80 % (± 2 %) |
| 1 | 0 | PR | s-Pol. | 45° | 600 - 1000 nm | R = 80 % (± 2 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 600 - 1000 nm | R = 80 % (± 3 %) |
| 1 | 2 | PR | p-Pol. | 45° | 600 - 1000 nm | R = 75 % (± 3 %) |
| 1 | 5 | PR | p-Pol. | 45° | 600 - 1000 nm | R = 66 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 600 - 1000 nm | R = 66 % (± 3 %) |
| 2 | 10 | PR | p-Pol. | 45° | 600 - 1000 nm | R = 50 % (± 3 %) |
| 2 | 1 | PR | p-Pol. | 45° | 600 - 1000 nm | R = 50 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 600 - 1000 nm | R = 50 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 600 - 1000 nm | R = 48 % (± 2 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 600 - 1000 nm | R = 48 % (± 2 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 600 - 1000 nm | R = 20 % (± 4 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 600 - 1030 nm | R = 99 % (± 0.5 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 600 - 1220 nm | R = 50 % (± 4 %) |
| 3 | 4 | PR | p-Pol. | 45° | 620 - 1050 nm | R = 50 % (± 2 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 620 - 1050 nm | R = 50 % (± 2 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 620 - 1060 nm | R = 67 % (± 3 %) |
| 1 | 1 | PR | p-Pol. | 45° | 620 - 1060 nm | R = 67 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 620 - 1100 nm | R = 30 % (± 3 %) |
| 1 | 1 | PR | p-Pol. | 45° | 620 - 1100 nm | R = 30 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 620 - 1100 nm | R 30 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 620 - 1100 nm | R = 30 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 640 - 940 nm | R = 66 % (± 2 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 640 - 940 nm | R = 33 % (± 3 %) |
| 2 | 0 | PR | s-Pol. | 45° | 650 - 1100 nm | R = 50 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 660 - 920 nm | R = 33 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | s-Pol. | 45° | 670 - 1050 nm | R = 49 % (± 2 %) |
| p-Pol. | R ~ 20 % | |||||
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 680 - 920 nm | R = 50 % (± 4 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 680 - 920 nm | R = 50 % (± 4 %) |
| 1 | 1 | PR | p-Pol. | 45° | 680 - 920 nm | R = 50 % (± 4 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 680 - 1100 nm | R = 80 % (± 3 %) |
| 1 | 3 | PR | p-Pol. | 45° | 680 - 1100 nm | R = 20 % (± 4 %) |
| 1 | 1 | PR | p-Pol. | 45° | 700 - 900 nm | R = 10 % (± 2 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 700 - 970 nm | R = 27 % (± 2 %) |
| 1 | 1 | PR | p-Pol. | 45° | 700 - 1000 nm | R = 20 % (± 2 %) |
| 1 | 4 | PR | p-Pol. | 45° | 700 - 1000 nm | R = 7 % (± 2 %) |
| 1 | 1 | PR | p-Pol. | 45° | 710 - 940 nm | R = 7 % (± 1.5 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 720 - 860 nm | R = 90 % (± 2 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 720 - 860 nm | R = 90 % (± 2 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 720 - 860 nm | R = 80 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 720 - 870 nm | R = 50 % (± 5 %) |
| 1 | 3 | PR | s-Pol. | 45° | 730 - 860 nm | R = 40 % (± 3 %) |
| 1 | 2 | PR | s-Pol. | 45° | 730 - 860 nm | R = 30 % (± 3 %) |
| 1 | 3 | PR | p-Pol. | 45° | 730 - 860 nm | R = 60 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 740 - 860 nm | R = 95 % (± 1 %) |
| 1 | 2 | PR | p-Pol. | 45° | 740 - 860 nm | R = 92 % (± 2 %) |
| s-Pol. | R = 98.5 % (± 0.5 %) | |||||
| 1 | 1 | PR | p-Pol. | 45° | 740 - 860 nm | R = 90 % (± 1 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 740 - 860 nm | R = 75 % (± 3 %) |
| 2 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 740 - 860 nm | R = 75 % (± 3 %) |
| 2 | 1 | PR | p-Pol. | 45° | 740 - 860 nm | R = 66 % (± 3 %) |
| 3 | 1 | PR | p-Pol. | 45° | 740 - 860 nm | R = 50 % (± 3 %) |
| 1 | 4 | PR | s-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 95 % (± 1 %) |
| 1 | 1 | PR | s-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 95 % (± 1 %) |
| 1 | 0 | PR | s-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 80 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | s-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 50 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | s-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 50 % (± 3 %) |
| 1 | 3 | PR | s-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 40 % (± 3 %) |
| 1 | 1 | PR | s-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 37 % (± 3 %) |
| 1 | 3 | PR | s-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 30 % (± 3 %) |
| 2 | 1 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 99 % (± 0.5 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 98 % (± 0.5 %) |
| 2 | 2 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 95 % (± 1 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 92 % (± 1 %) |
| 3 | 4 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 90 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 90 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 90 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 85 % (± 1 %) |
| 1 | 1 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 85 % (± 1 %) |
| 1 | 3 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R 80 % (± 2 %) |
| 1 | 1 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 80 % (± 2 %) |
| 1 | 3 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 75 % (± 2 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R > 63 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 60 % (± 3 %) |
| 1 | 3 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 60 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 50 % (± 3 %) |
| 1 | 3 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 50 % (± 3 %) |
| 1 | 2 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 30 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R 30 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 25 % (± 3 %) |
| 1 | 2 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 20 % (± 3 %) |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 10 % (± 3 %) |
| 1 | 4 | PR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R = 10 % (± 3 %) |
| 1 | 3 | PR | s,p-Pol. | 45° | 808 nm | R = 50 % (± 5 %) |
| 1 | 3 | PR | s,p-Pol. | 45° | 810 nm | R = 50 % (± 5 %) |
| 1 | 1 | PR | p-Pol. | 45° | 840 - 960 nm | R = 30 % (± 2 %) |
| 1 | 3 | AR | unpol. | 45° | 350 - 450 nm | R ~ 0.6 % |
| 1 | 0 | AR | s-Pol. | 45° | 370 - 430 nm | R < 1.5% |
| 1 | 0 | AR | p-Pol. | 45° | 380 - 420 nm | R < 0.2 % |
| 1 | 0 | AR | s-Pol. | 45° | 460 - 990 nm | R < 5 % |
| 1 | 0 | AR | s-Pol. | 45° | 460 - 990 nm | R < 5 % |
| 1 | 0 | AR | s-Pol. | 45° | 500 - 980 nm | R < 2 % |
| 3 | 0 | AR | s-Pol. | 45° | 550 - 1050 nm | R < 1.5 % |
| 1 | 5 | AR | s-Pol. | 45° | 600 - 1000 nm | R < 1 % |
| 1 | 0 | AR | s-Pol. | 45° | 600 - 1000 nm | R < 1 % |
| 1 | 7 | AR | p-Pol. | 45° | 600 - 1000 nm | R < 0.25 % |
| 1 | 0 | AR | p-Pol. | 45° | 600 - 1030 nm | R < 0.2 % |
| 2 | 0 | AR | s-Pol. | 45° | 650 - 1100 nm | R 1 % |
| 1 | 0 | AR | s,p-Pol. | 45° | 670 - 1030 nm | R < 1.5 % |
| 1 | 1 | AR | p-Pol. | 45° | 710 - 940 nm | R < 0.15 % |
| 1 | 3 | AR | s-Pol. | 45° | 720 - 860 nm | R < 0.5 % |
| 1 | 0 | AR | p-Pol. | 45° | 720 - 860 nm | R < 0.2 % |
| 2 | 5 | AR | s-Pol. | 45° | 730 - 860 nm | R < 0.5 % |
| 2 | 1 | AR | p-Pol. | 45° | 740 - 860 nm | R < 0.25 % |
| 7 | >10 | AR | s-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R < 0.3 % |
| 1 | 0 | AR | s-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R < 0.3 % |
| 11 | >10 | AR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R < 0.2 % |
| 7 | 8 | ARp(45°,750-850nm)<0.2% | ||||
| 3 | 3 | AR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R < 0.2 % |
| 2 | 0 | AR | p-Pol. | 45° | 750 - 850 nm | R 0.2 % |
| 1 | 3 | AR | s,p-Pol. | 45° | 790 - 820 nm | R < 0.7 % |
What_'s new
お知らせ
2026/6/02
川越オフィス臨時クローズのお知らせ(2026年6月3日)
お知らせ
2026/4/15
OPIE’26出展のお知らせ(2026年4月22日~24日)
お知らせ
2026/4/09
Webサイトをリニューアルいたしました
お知らせ
2025/12/18
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2025/7/05
COMNEXTで講演します(2025年7月31日)
お知らせ
2025/6/20
OPK2025出展のお知らせ(2025年7月16日~7月17日)
お知らせ
2025/4/18
OPIE’25出展のお知らせ(2025年4月23日~25日)(更新)
お知らせ
2025/2/19
OFC 出展のお知らせ(2025年4月1日~3日)
お知らせ
2024/12/06
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2024/5/20
OPK’24出展のお知らせ(2024.6.26更新)
お知らせ
2024/3/21
OFC 2024出展のお知らせ(3月26日~28日)
お知らせ
2024/1/29
OPIE’24出展のお知らせ(2024/03/29続報)
お知らせ
2023/11/28
今年末年始の営業予定について
お知らせ
2023/11/17
[重要] 弊社代表FAXの不具合について(2023.11.17)
お知らせ
2023/4/04
2023年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2023/3/30
[重要] 弊社代表FAXの不具合について
お知らせ
2022/12/06
今年度年末年始の営業予定について
お知らせ
2022/8/09
2022年夏季営業について
お知らせ
2022/4/22
2022年ゴールデンウィーク中の営業について
お知らせ
2022/2/16
SPECK SENSORSYSTEME社のCRD吸収係数測定システムの販売を開始しました。
お知らせ
2022/2/16
NANOLN社のLiNbO3, LiTaO3単結晶薄膜の販売を開始しました。
お知らせ
2020/5/03
Dimension Technology社のコネクタ端面検査装置の販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/31
Stable Laser Systems社のサブHz、Hz線幅レーザとコンポーネントの販売を開始しました。
お知らせ
2020/3/23
World Star Tech社のパソコン制御LD光源の販売を開始しました
お知らせ
2020/3/05
WL Photonics社の780 -1000 nmチューナブルフィルタの販売を開始しました
お知らせ
2020/3/03
Spectrolight社のイメージング・照明用波長セレクタ(Flexible Wavelength Selector)の販売を開始しました
Search by product category
| Different Articles | Stock | Type | Polarisation | Angle of incidence | Wavelength range | Reflection / Transmission / Dispersion |
| 1 | 0 | HR | unpol. | 0° | 158.5 nm | R > 92 % |
| R | 266 nm | R < 10 % | ||||
| 800 nm | ||||||
| 1 | 9 | HR | s-Pol. | 30° | 210 - 225 nm | R > 97 % |
| R | 410 - 450 nm | R < 5 % | ||||
| 1 | 3 | HR | s,p-Pol. | 22.5° | 405 nm | R > 99.9 % |
| R | 810 nm | R < 5 % | ||||
| 1 | 1 | HR | unpol. | 45° | 205 nm | R > 95 % |
| R | s-Pol. | 410 nm | R < 10 % | |||
| HR | 205 nm | R > 97 % | ||||
| p-Pol. | R > 93 % | |||||
| 1 | 4 | HR | s-Pol. | 45° | 210 - 235 nm | R ~ 90 % |
| R | p-Pol. | 300 - 1000 nm | R < 8 % | |||
| 1 | 5 | HR | unpol. | 45° | 270 nm | R > 99 % |
| R | 405 nm | R < 10 % | ||||
| 1 | 2 | HR | s-Pol. | 45° | 270 - 310 nm | R > 99 % |
| R | s,p-Pol. | 390 - 430 nm | R < 3 % | |||
| 1 | 3 | HR | s-Pol. | 45° | 280 - 300 nm | R > 99.5 % |
| R | p-Pol. | 440 - 770 nm | R < 1 % | |||
| GDD | s-Pol. | 280 - 330 nm | 0 fs² | |||
| p-Pol. | 285 - 330 nm | |||||
| 1 | 0 | HR | s-Pol. | 45° | 320 - 470 nm | R > 99.5 % |
| R | p-Pol. | 600 - 950 nm | R < 2 % | |||
| 1 | 0 | HR | s-Pol. | 45° | 360 - 440 nm | R > 99.9 % |
| p-Pol. | 370 - 420 nm | R > 99.8 % | ||||
| R | s-Pol. | 500 - 900 nm | R < 5 % | |||
| p-Pol. | 0° | |||||
| 1 | 0 | HR | s-Pol. | 45° | 360 - 440 nm | R > 99.9 % |
| p-Pol. | 380 - 420 nm | R > 99.8 % | ||||
| R | s,p-Pol. | 500 - 900 nm | R < 5 % | |||
| GDD | s-Pol. | 360 - 440 nm | 20 fs² | |||
| 1 | 4 | HR | s-Pol. | 45° | 360 - 445 nm | R > 99.9 % |
| p-Pol. | 375 - 425 nm | R > 99.8 % | ||||
| R | s,p-Pol. | 500 - 930 nm | R < 5 % | |||
| 800 nm | R < 2 % | |||||
| 1 | 0 | HR | s-Pol. | 45° | 360 - 445 nm | R > 99.9 % |
| p-Pol. | 375 - 425 nm | R > 99.8 % | ||||
| R | s,p-Pol. | 500 - 930 nm | R < 5 % | |||
| 800 nm | R < 2 % | |||||
| 1 | 3 | HR | s-Pol. | 45° | 360 - 445 nm | R > 99.9 % |
| p-Pol. | 375 - 425 nm | R > 99.8 % | ||||
| R | s,p-Pol. | 500 - 930 nm | R < 5 % | |||
| 800 nm | R < 2 % | |||||
| 1 | 10 | HR | s-Pol. | 45° | 360 - 445 nm | R > 99.9 % |
| p-Pol. | 375 - 425 nm | R > 99.8 % | ||||
| R | s,p-Pol. | 500 - 930 nm | R < 5 % | |||
| 800 nm | R < 2 % | |||||
| 1 | 0 | HR | unpol. | 45° | 370 - 420 nm | R > 99.9 % |
| R | 600 - 980 nm | R < 2 % | ||||
| 1 | 0 | HR | unpol. | 45° | 370 - 420 nm | R > 99.9 % |
| R | 600 - 980 nm | R < 2 % | ||||
| 1 | 0 | HR | unpol. | 45° | 370 - 420 nm | R > 99.9 % |
| R | 600 - 980 nm | R < 2 % | ||||
| 1 | 0 | HR | unpol. | 45° | 370 - 420 nm | R > 99.9 % |
| R | 600 - 980 nm | R < 2 % | ||||
| 1 | 0 | HR | unpol. | 45° | 380 - 440 nm | R > 99.8 % |
| R | 700 - 950 nm | R < 2 % | ||||
| 1 | 0 | HR | s,p-Pol. | 45° | 400nm | R > 99.9 % |
| R | p-Pol. | 900-1800nm | R < 2 % | |||
| HT | unpol. | 0° | ||||
| 1 | 0 | HR | unpol. | 45° | 405 nm | R > 99.9 % |
| R | 810 nm | R < 5 % | ||||
| 1 | 6 | HR | s-Pol. | 45° | 740 - 840 nm | R > 99.9 % |
| R | p-Pol. | 860 - 1600 nm | R < 5 % | |||
| 1 | 3 | HR | unpol. | 45° | 750 nm | R > 99.9 % |
| R | 532 nm | R < 5 % | ||||
| 2 | 0 | HR | unpol. | 45° | 760 - 850 nm | R > 99.9 % |
| R | 360 - 440 nm | R < 5 % | ||||
| 1 | 0 | HR | unpol. | 45° | 770 - 860 nm | R > 99.9 % |
| R | 380 - 430 nm | R < 5 % | ||||
| GDD | 780 - 840 nm | 0 fs² | ||||
| 1 | 1 | HR | s,p-Pol. | 45° | 780 - 820 nm | R > 99.9 % |
| R | 390 - 410 nm | R < 5 % | ||||
| 1 | 6 | HR | p-Pol. | 45° | 860 - 1600 nm | R < 0.2 % |
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 600 - 1220 nm | R 50 % (± 4 %) |
| GDD | 20 fs² | |||||
| 1 | 0 | PR | p-Pol. | 45° | 600 - 1220 nm | R = 50 % (± 4 %) |
| 1 | 9 | AR | s-Pol. | 30° | 410 - 450 nm | R < 0.5 % |
| p-Pol. | R < 0.25 % | |||||
| 1 | 3 | AR | unpol. | 22.5° | 810 nm | R < 0.25 % |
| 1 | 0 | AR | unpol. | 45° | 350 - 450 nm | R < 0.6 % |
| 1 | 0 | AR | unpol. | 45° | 350 - 450 nm | R ~ 0.6 % |
| 1 | 1 | AR | s,p-Pol. | 45° | 390 - 410 nm | R < 0.6 % |
| 1 | 2 | AR | s,p-Pol. | 45° | 390 - 430 nm | R < 0.7 % |
| 1 | 5 | AR | unpol. | 45° | 405 nm | R < 0.5 % |
| AR | 810 nm | |||||
| 1 | 1 | AR | s-Pol. | 45° | 410 nm | R < 0.25 % |
| 1 | 3 | AR | p-Pol. | 45° | 440 - 770 nm | R < 0.5 % |
| 1 | 0 | AR | s,p-Pol. | 45° | 500 - 900 nm | R < 2 % |
| 1 | 0 | AR | p-Pol. | 45° | 500 - 950 nm | R < 1 % |
| 1 | 0 | AR | s-Pol. | 45° | 520 - 900 nm | R < 2 % |
| p-Pol. | R < 1 % | |||||
| 2 | > 10 | AR | s-Pol. | 45° | 520 - 900 nm | R < 2 % |
| p-Pol. | 520 - 940 nm | R < 1 % | ||||
| 1 | 3 | AR | s-Pol. | 45° | 520 - 900 nm | R < 2 % |
| p-Pol. | 520 - 940 nm | R < 1 % | ||||
| 1 | 3 | AR | s,p-Pol. | 45° | 532 nm | R < 0.7 % |
| 1 | 0 | AR | p-Pol. | 45° | 600 - 950 nm | R < 0.25 % |
| 2 | 0 | AR | unpol. | 45° | 600 - 980 nm | R < 1.5 % |
| 1 | 0 | AR | unpol. | 45° | 600 - 980 nm | R < 1.5 % |
| 1 | 0 | AR | unpol. | 45° | 700 - 950 nm | R < 1.5 % |
| 1 | 0 | AR | unpol. | 45° | 810 nm | R < 0.6 % |
お問い合わせはこちら